בתהליך הציפוי, ישנה בעיה של יבשות לא אחידה של הציפוי – וזה בעצם מוביל לבזבוז חומרים. נוצרים אז שכבות לא אחידות, בעיות בהידבקות, וסדקים עקב לחץ תרמי, כאשר החום אינו אחיד על פני הזכוכית. פיתחנו מודול ייבוש אחיד, שמאפשר למנוע את הבזבוז הזה כבר בשלב הראשון, על ידי הזנת אנרגיה קבועה וניתנת לשליטה, בדיוק במקום שהציפוי זקוק לה.
מה באמת חשוב? המודול פועל באמצעות מערך קומפקטי של גורמי פליטה באור קרוב-אינפרא-אדום, המאפשרים חימום מהיר של הפני השטח, תוך הפחתת החימום הלא רצוי. כך נוצר שדה תרמי אחיד על פני כל רוחב הזכוכית, במקום אזורים חמים וקרים. ניתן לשנות את עוצמת החימום כדי שיתאים למהירות הייצור, וכן להתאים את פרופיל החימום לעובי הציפוי ולתכונות החומר. הרכיבים ההנדסיים של המודול מתאימים לשימוש במפעלים – רכיבי קוורץ, ואינטרפייסים חשמליים ומכניים סטנדרטיים, וכן מבנה מודולרי שמאפשר החלפה מהירה של הרכיבים בזמן התחזוקה.
למה זה עובד בתהליך עיבוד הזכוכית? תהליך ייבוש הציפוי נמצא ממש לפני שלב העיבוד הסופי של הזכוכית, כך שיש צורך לאזן בין זמן העיבוד לבין האיכות של התוצאה. ייבוש אחיד מפחית את הצורך בעבודות תיקון, ומאפשר לתהליך להמשיך בצורה רציפה. כך נוצר ציפוי אחיד, ללא חימום יתר של החומר, מה שמפחית את הסיכון לעיוותים וללחץ תרמי. צריכת האנרגיה פוחתת, מכיוון שהאור הקרוב-אינפרא-אדום מחמם רק את הציפוי עצמו, ולא את כל החדר. בנוסף, המודול ניתן לשילוב בקלות במכשירי ציפוי וייבוש קיימים, כך שאין צורך לשנות את ההגדרות של המכשירים או לשנות את לו”ז העבודה.
פרטים מעשיים: ייבוש באמצעות אור קרוב-אינפרא-אדום דורש תנאי ראייה טובים, כך שהגאומטריה של המכשיר והצללים שנוצרים חשובים. אנו מתאימים את גודל מערך הגורמים הפולטים ואת העדשות כך שיכסו את האזור הרלוונטי, וימזערו את ההשפעות השליליות של הצללים. עם זאת, יש צורך לוודא שיש מספיק מרווח בין הרכיבים השונים. ההתקנה פשוטה, אך יש צורך להתאים את המתח, הקירור ואותות הבקרה למכשיר הראשי. יש לבצע ניסויים קצרים כדי לקבוע את ההגדרות הנכונות, ולאחר מכן התהליך יפעל בצורה עקבית.